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描述:光熱催化微反裝置適用于光熱協(xié)同催化、光催化催化劑的評價(jià)及篩選,可做光催化的反應動(dòng)力學(xué)、反應歷程等方面的研究。主要應用到高溫光熱催化反應,光熱協(xié)同催化,具體可用于半導體材料的合成燒結、催化劑材料的制備、催化劑材料的活性評價(jià)、光解水制氫、光解水制氧、二氧化碳還原、氣相光催化、甲醛氣體的光催化降解、VOCs、NOx、SOx、固氮等領(lǐng)域。
標題:光熱催化微反裝置
產(chǎn)品概述
光熱催化微反裝置采用石英反應器,可滿(mǎn)足透光的要求,能進(jìn)行高溫的實(shí)驗。系統采用加熱爐給反應器加熱,可保證反應過(guò)程中溫度的穩定。
光熱催化微反裝置設計為三條氣路進(jìn)料,配有1路氣體吹掃,同時(shí)預留1路液路接口(可定量加入所需液體原料)。系統包括:進(jìn)料穩流系統、反應恒溫系統,產(chǎn)物收集系統、控制系統。
系統柜體采用鋁型材制作,采用配套的螺栓、螺母固定件,美觀(guān)大方,維修拆卸方便。與管線(xiàn)連接處采用雙卡套接頭,更換反應器即可做高壓實(shí)驗和常規熱催化反應。
技術(shù)參數
1.進(jìn)料系統:3路反應進(jìn)氣(可擴展4路),默認流量100mL/min;氣體流量控制精度:±1%;配有1路吹掃氣;配有1路液路接口。統裝有配氣出口,可單獨做為配氣系統使用。
2.反應器(1) :操作壓力: 微正壓(主要用于克服系統的壓力降);設計溫度:≤800℃,配程序控溫,開(kāi)式加熱爐;設計壓力:常壓,<0.6Mpa,反應區可恒定壓力;催化劑裝填量:0.1mg---100mg;材質(zhì):石英玻璃。(反應器2):操作壓力:≤5mpa,設計溫度350℃ 材質(zhì):316Lor 哈氏合金
3.參數指標:壓力顯示精度:±0.01MPa;溫度顯示精度:±0.1℃;溫度控制精度:±1℃;流量控制精度:±1%F.S
4.控制系統:系統采用控制模塊加觸屏計算機(含)聯(lián)合控制,在觸屏計算機上可實(shí)現100%儀表功能操作如實(shí)時(shí)讀取測量值、給定值、設置參數、自動(dòng)/手動(dòng)切換、啟動(dòng)運行/停止程序,并具備數據存儲和導出功能。
5.過(guò)程監視控制:實(shí)現對反應器的溫度、氣體流量的控制和顯示。實(shí)現對反應過(guò)程中壓力和反應器床層溫度的監視。
6.實(shí)現對溫度、壓力的越限報警及連鎖安全保護。溫度為兩級報警,溫度高于*設定值時(shí)聲光報警,高于第二設定值時(shí)自動(dòng)停止加熱;壓力高于*設定值時(shí)聲光報警,高于第二設定值時(shí)停止進(jìn)料。
7.現場(chǎng)顯示:反應器進(jìn)口設有1塊精細壓力表,用于實(shí)時(shí)顯示當前反應器的反應壓力,同時(shí)匹配數顯壓力傳感器控制屏顯示。
8.控制界面:控制界面有帶控制點(diǎn)的控制流程圖、參數設置表、程序升溫設置、報警窗口、歷史數據以及各控制點(diǎn)的實(shí)時(shí)曲線(xiàn)和歷史曲線(xiàn),歷史曲線(xiàn)保留時(shí)間長(cháng)。
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