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半導體拋光液制備裝置

描述:半導體拋光液制備裝置是用于生產(chǎn)半導體拋光液的專(zhuān)用設備。

  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-08-14
  • 訪(fǎng)問(wèn)量:557
產(chǎn)品詳情/ PRODUCT DETAIL

標題:半導體拋光液制備裝置

產(chǎn)品概述

半導體拋光液制備裝置是用于生產(chǎn)半導體拋光液的專(zhuān)用設備。


它通常由以下幾個(gè)主要部分構成:


原料儲存系統


  • 多個(gè)不同規格的儲罐,分別用于存放磨料(如納米級二氧化硅、氧化鋁等)、化學(xué)添加劑(如氧化劑、表面活性劑、螯合劑等)以及溶劑(如水、有機溶劑等)。


精確計量系統


  • 高精度的計量泵或稱(chēng)重傳感器,能夠按照精確的配方比例準確地添加各種原料。


攪拌混合系統


  • 強力攪拌器或均質(zhì)機,確保各種原料充分混合均勻,達到微觀(guān)層面的均勻性。


溫度控制系統


  • 加熱和冷卻裝置,可根據需要控制反應和混合過(guò)程中的溫度,以?xún)?yōu)化化學(xué)反應和物理混合效果。


過(guò)濾系統


  • 精細的過(guò)濾裝置,如微孔過(guò)濾器或超濾膜,用于去除可能存在的大顆粒雜質(zhì)和團聚物,保證拋光液的純凈度。


質(zhì)量監測系統


  • 在線(xiàn)粒度分析儀:實(shí)時(shí)監測磨料顆粒的粒徑分布。

  • pH 計:檢測溶液的酸堿度。

  • 電導率儀:測量溶液的電導率,以評估溶液中離子的含量。


自動(dòng)化控制系統


  • 對整個(gè)制備過(guò)程進(jìn)行自動(dòng)化控制和數據記錄,保證生產(chǎn)的穩定性和可重復性。


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